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国产CPU工艺双喜临门华虹14nm工艺良率已达25%

放大字体  缩小字体 时间:2020-01-13 18:07:18  阅读:9085+ 作者:责任编辑NO。石雅莉0321

在先进半导体工艺上,国内最大的晶圆代工厂中芯世界SMIC的14nm工艺现已量产,改进版的12nm工艺也在导入中,取得了优异的成果。考虑到国内半导体工艺上的落后,光盼望中芯世界一家也是不可的,上海华虹集团日前泄漏其14nm FinFET工艺也全线贯通,SRAM良率已达25%。

1月12日下午,华虹集团在无锡新完工的华虹七厂研制大楼举行敞开、立异、协作华虹集团2020年全球供货商迎新座谈会,邀请了国内30多家、国外50多家供货商协作伙伴到会,华虹集团高管共享了该公司的最新发展。

华虹方面表明,2019年是华虹集团产能扩张、工艺提高的要害年,该公司多个项目都取得了重要发展:

作为华虹集团在上海市域以外的第一个制作项目,华虹七厂于9月17日完结顺畅投产,首期1万片产能的机台顺畅串线并完结一系列工艺验证,进入正常出产阶段,发明了业界同类产线建成投产的最快记载,成为中国大陆第一条12英寸特征工艺产线,也是中国大陆第一条12英寸功率器材代工产线;

华虹六厂自2018年10月18日投产以来,产能爬坡顺畅,现在现已完结月产2万片的装机产能;

华虹五厂完结接连两年盈余,年度出货量、单日作业量屡立异高;

华虹宏力8英寸特征工艺制作渠道(华虹一、二、三厂)在产能规划、营运功率方面继续坚持抢先,并接连9年完结盈余。

华虹集团成为业界仅有一家接连两年建造并投产运营两条12英寸出产线的企业

除了产能建造之外,华虹集团在技能研制上也获得了多项重要打破,新研制的65/55纳米节点得射频和BCD特征工艺渠道,处于世界先进水平;28纳米工艺(28LP/28HK/28HKC+)均完结量产;22纳米研制快速推动;14纳米研制或重大发展;更先进的技能节点的先导工艺研制快速布置。

尤其是最新一代的工艺,华虹集团总工程师赵宇航指出其14nm FinFET工艺现已全线贯通,SRAM良率25%,2020年将快速推动。

这也是华虹集团初次对外发布14nm工艺的详细良率状况,SRAM芯片的25%良率对出产来说必定不可,可是对研制、试验来说现已是一大前进。

在整体进度上,华虹的14nm工艺必定是不如中芯世界的14nm快的,后者的14nm工艺上一年良率就达到了95%,并渐渐的开端进入量产阶段,比国家预订方针提早一年,现在正在产能提高及新工艺导入阶段。

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